產(chǎn)品概述

　　熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款高精度的實(shí)驗(yàn)室熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室及小規(guī)模生產(chǎn)。該設(shè)備操作簡(jiǎn)便，專為高質(zhì)量薄膜的制備而設(shè)計(jì)，能提供高均勻性和較高的純度鍍膜效果。

       由于采用了先進(jìn)的熱蒸發(fā)技術(shù)，能夠在高真空環(huán)境下，控制鍍膜的質(zhì)量和厚度，適用于金屬、半導(dǎo)體及其他材料的鍍膜需求。

　　技術(shù)參數(shù)：

　　1、工作壓力范圍：4×10? ?Pa

　　2、真空泵啟動(dòng)時(shí)間：30分鐘，達(dá)到5×10? ?Pa的真空環(huán)境

　　3、薄膜厚度均勻性：薄膜厚度的均勻性為±3%，較大偏差為±5%

　　4、膜層厚度控制精度：5%

　　5、鍍膜速度：每小時(shí)12小時(shí)≤5Pa

　　6、操作時(shí)間：可調(diào)時(shí)間為0-30分鐘